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Präzise Messungen, außergewöhnliche Erkenntnisse

Das Röntgenabsorptions-Feinstrukturspektrometer (XAFS) ist ein leistungsfähiges Werkzeug zum Studium der lokalen atomaren oder elektronischen Struktur von Materialien und wird häufig in Bereichen wie Katalyse, Energie und Nanotechnologie eingesetzt.

2025/01/07
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Der Schlüssel zur Erforschung der mikroskopischen Welt der Materie

Das Röntgenabsorptionsfeinstrukturspektrum (XAFS) ist ein analytisches Werkzeug zur Untersuchung der Struktur und Eigenschaften von Substanzen. XAFS erhält Informationen über Atome und Moleküle in einer Probe, indem es die Röntgenabsorption der Probe innerhalb eines bestimmten Energiebereichs misst. XAFS ist ein leistungsstarkes Werkzeug zur Untersuchung der lokalen atomaren oder elektronischen Struktur von Materialien. Die XAFS-Technologie wird häufig in Materialwissenschaften, Chemie, Biologie und anderen Bereichen eingesetzt, insbesondere in Forschungsbereichen wie Katalyse, Batterien, Sensoren usw. XAFS hat einen wichtigen Anwendungswert. Durch die XAFS-Technologie können Forscher ein tieferes Verständnis der Mikrostruktur und Eigenschaften von Proben erlangen, was eine leistungsstarke Unterstützung für die Entwicklung und Optimierung neuer Materialien bietet.

2024/12/05
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Warum ist ein Röntgenabsorptions-Feinstrukturspektrometer ein unverzichtbares Werkzeug in der modernen Materialwissenschaft?

Das Röntgenabsorptions-Feinstrukturspektrometer ist ein leistungsfähiges Werkzeug zum Studium der lokalen atomaren oder elektronischen Struktur von Materialien und wird häufig in Bereichen wie Katalyse, Energie und Nanotechnologie eingesetzt. Kernvorteile von XAFS: Produkt mit höchstem Lichtstrom: Photonenfluss von über 1.000.000 Photonen/Sekunde/eV, mit einer spektralen Effizienz, die um ein Vielfaches höher ist als bei anderen Produkten; Erreichen einer Datenqualität, die der von Synchrotronstrahlung entspricht Hervorragende Stabilität: Die Stabilität der monochromatischen Lichtintensität der Lichtquelle ist besser als 0,1 % und die Energiedrift bei wiederholter Sammlung beträgt weniger als 50 meV 1% Nachweisgrenze: High luminous flux, excellent optical path optimization, and excellent light source stability ensure high-quality EXAFS data is obtained even when the measured element content is>1%.

2024/10/22
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